全面腐蝕
鈦試樣或工件表面發(fā)生均勻的腐蝕，形成一層厚度均勻的腐蝕產(chǎn)物，緊緊地依附于鈦表面，一般不會(huì)隨著時(shí)間的延長(zhǎng)而向內(nèi)擴(kuò)展，但也有例外的情況。在許多腐蝕介質(zhì)中，鈦的腐蝕性能與帶有保護(hù)層的其他金屬（比如鋁）的一樣好或更好。鈦的腐蝕通常是電解性質(zhì)，所以腐蝕與電極電位及電動(dòng)電流之間有一定的關(guān)系。陽(yáng)極與陰極極化作用也對(duì)腐蝕機(jī)理及速度有強(qiáng)烈的影響。鈦的電位在很大程度上取決于氧化膜的絕緣性能。因此，鈦表面氧化膜的特性對(duì)其抗蝕性起著決定性作用。凡是能改善氧化膜致密性、增加氧化膜厚度、提高氧化膜絕緣性能的因素，都有助于抗蝕性的提高。反之，凡是降低氧化膜有效保護(hù)能力的任何因素，不管是機(jī)械的，還是化學(xué)的，都會(huì)使鈦的抗蝕性急劇下降。
局部腐蝕
鈦在大多數(shù)條件下的腐蝕都是局部性質(zhì)的，且某一點(diǎn)的腐蝕程度與另一點(diǎn)的有較大差別。縫隙腐蝕、孔穴腐蝕、應(yīng)力腐蝕開(kāi)裂等都是局部腐蝕?？p隙腐蝕多發(fā)生于突緣或折邊處以及堆積物附近縫隙間，縫隙過(guò)小或過(guò)大都不會(huì)發(fā)生?？籽ǜg是在開(kāi)孔中發(fā)生的一種腐蝕，在有CI—、Br—、I—等離子存在時(shí)易發(fā)生這類(lèi)腐蝕。應(yīng)力腐蝕開(kāi)裂是工件或試樣在有拉伸應(yīng)力和腐蝕環(huán)境的共同作用下發(fā)生的一種腐蝕。
磨蝕
試樣或工件在腐蝕性流動(dòng)介質(zhì)中發(fā)生的腐蝕形態(tài)，因受流體的機(jī)械作用，腐蝕加快，因流體能帶走一部分或全部腐蝕產(chǎn)物，暴露新的表面，加快腐蝕。
異種金屬接觸腐蝕
異種金屬接觸腐蝕又稱(chēng)電偶腐蝕，在腐蝕環(huán)境中，放置2種不同電位的金屬或結(jié)構(gòu)件，在電短路的情況下，電位低的金屬就會(huì)產(chǎn)生腐蝕。
吸H2或H2脆
在通常條件下，鈦及鈦合金中總含有H2，若從材料中提取H2，當(dāng)提取量超過(guò)固溶極限時(shí)，將形成脆的氫化物，產(chǎn)生氫脆。
在大多數(shù)條件下，鈦及鈦合金的腐蝕是局部性質(zhì)的，同時(shí)，某一點(diǎn)的腐蝕程度與另一點(diǎn)的腐蝕程度有很大差異。因此，對(duì)腐蝕的定量評(píng)價(jià)只能根據(jù)大量的統(tǒng)計(jì)材料，而不能憑幾個(gè)試樣的結(jié)果。評(píng)價(jià)腐蝕的另一個(gè)嚴(yán)重問(wèn)題是以什么作為標(biāo)準(zhǔn)，很少采用質(zhì)量損失，大都根據(jù)強(qiáng)度損失、表面外觀變化或穿孔來(lái)判斷腐蝕程度。一般來(lái)說(shuō)，鈦及鈦合金的腐蝕進(jìn)程緩慢。除非對(duì)所處條件完全不適應(yīng)。為了正確地評(píng)價(jià)鈦的使用性能，通常要進(jìn)行幾十天甚至數(shù)年的試驗(yàn)。鈦及鈦合金在許多場(chǎng)合中，一開(kāi)始腐蝕較快，然后慢下來(lái)，最后往往只發(fā)生微弱的腐蝕?？墒窃谝恍﹫?chǎng)合下，鈦合金在經(jīng)過(guò)一段時(shí)間后會(huì)發(fā)生轉(zhuǎn)變，組織與性能會(huì)發(fā)生急劇變化。因此，短時(shí)間的使用試驗(yàn)是不完全可靠的。快速使用試驗(yàn)方法很多，但一般來(lái)說(shuō)，試驗(yàn)速度越快，結(jié)果的可靠性也越低。
鈦屬于熱力學(xué)極不穩(wěn)定的金屬之一，其標(biāo)準(zhǔn)電極電位為-1.63V，表面上總覆蓋著一層薄而致密的TiO2膜，因而鈦及鈦合金的穩(wěn)定電位編向正值，例如，鈦在25℃海水中的穩(wěn)定電位約為0.09V。電極電位大都是從熱力學(xué)數(shù)據(jù)計(jì)算的，而且由于數(shù)據(jù)來(lái)源不同，可能會(huì)出現(xiàn)不同的數(shù)據(jù)，這是正常的。
鈦及鈦合金的表面總有一層薄薄的在空氣中自然生成的氧化膜，其優(yōu)異的抗蝕性就源于其表面總存在一層穩(wěn)定的、附著性強(qiáng)的、保護(hù)性好的氧化膜。這層保護(hù)膜的抗蝕性可用P/B比值表示。P/B值大于1的才有保護(hù)性，否則，抗蝕性低，但也不可大于2.5，如大于此值，則氧化膜內(nèi)的壓應(yīng)力增大，容易引起氧化膜破裂，抗蝕性下降，最佳值為1~2.5。
鈦在大氣或水溶液中會(huì)立即形成氧化膜，在室溫大氣中形成的膜厚為 1.2nm~1.6nm，并隨時(shí)間延長(zhǎng)而增長(zhǎng)，70天后增大到5nm，545天可增厚到 8nm～9nm。人為強(qiáng)化氧化條件，例如加熱，加氧化劑或陽(yáng)極氧化等，可以加速氧化，增加膜厚，提高抗蝕性。
鈦及鈦合金表面上的氧化膜一般不是一種單一結(jié)構(gòu)，其成分與結(jié)構(gòu)與生成條件相關(guān)。通常，在氧化膜與環(huán)境的界面上大都為T(mén)iO2，而在氧化膜與金屬界面上可能以TiO2為主，而中間為不同價(jià)態(tài)的過(guò)渡層，甚或是非化學(xué)當(dāng)量的氧化物，這表示鈦及鈦合金的表面氧化膜為復(fù)雜的多層結(jié)構(gòu)。至于它們的形成過(guò)程，也不能簡(jiǎn)單地理解為T(mén)i與O2的直接反應(yīng)而成。一些研究學(xué)者提出過(guò)種種形成機(jī)理，俄羅斯學(xué)者認(rèn)為首先生成氫化物，然后于氫化物上形成純的氧化膜。
